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安捷倫Turbo-V 1K-G渦輪分子泵

更新時間:2020-07-21

簡要描述:

安捷倫Turbo-V 1K-G渦輪分子泵,不僅是一臺泵。該裝置是專門為薄膜沉積設備精心設計的分子泵系統。其葉片級數和泵的整體結構均經過優化,可以在高流速的氬氣氛圍下和溫度*的環境中工作。另外,可通過遠程機架控制器或泵機一體式控制器來驅動泵。所有這些特點使安捷倫 Turbo-V 1K-G 成為了鍍膜工業的較佳真空解決方案。

渦輪分子泵應用范例

安捷倫渦輪分子泵包括集成泵組和多流路泵,其設計旨在實際應用中達到較佳性能。泵的緊湊型設計滿足工業中的嚴苛空間要求。渦旋分子泵幾乎不需要維護,并可避免錯誤使用。無論您是終端用戶還是原始設備制造商,安捷倫均可針對您的應用為您提供幫助和支持,或定制適合您的需求的系統。

典型渦輪泵應用

領域詳細說明應用
質譜和分析儀器
  • 針對質譜系統優化的全系列泵和控制器
  • 具有多入口泵組的定制泵
  • 低成本、易于使用、高分析性能
  • 對于 GC/MS,提供用于相對低氣體載荷環境的 1 個真空室和用于分析無機樣品的中等真空接口
  • 對于 LC/MS,需要提供多室、高通量真空系統
  • 對于 ICP-MS,提供多種真空系統,包括用于氬氣等重載氣的泵和使用氦氣的碰撞池
  • 對于 TOF 系統,需要較小尺寸、高通量和高效的散熱設備
  • 質譜
  • GC/MS
  • LC/MS
  • ICP-MS
  • TOF
科研中的真空應用
  • 非常清潔、可靠和高性價比的 HV 和 UHV
  • 粗真空軸承未暴露于 UHV,降低了污染
  • 高速和高壓縮
  • 可以以任意角度安裝
  • 聯用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體
  • 高能物理
  • 融合技術
  • 一般 UHV 研究
  • 同步光源粒子加速器
工業真空加工
  • 為薄膜沉積應用而專門設計的集成分子泵解決方案
  • 適用于原始設備制造商和終端用戶的專業性能
  • 適用于具有預真空鎖或大型內聯連續系統的單室批量系統和多室系統的泵

薄膜沉積:

  • 玻璃涂層設備(建筑和汽車玻璃,平板顯示器)
  • 薄膜太陽能電池生產(光電)
  • 光學數據介質(CD、DVD、磁光光盤)
  • 磁性存儲介質
  • 表面處理
  • 光學涂層(眼科、精密光電)
  • 膜或箔上的輥式/卷繞涂覆

設備加工:

  • 生產電視機和顯示器顯像管
  • 疏散燈(高速公路照明、投影機)
  • X 射線管和電子設備

一般工藝:

  • 真空爐/冶金
納米技術儀器
  • 分析從有機化合物到半導體晶片等各類物質
  • 全系列的高真空和超高真空泵特別適用于要求嚴苛的 SEM、TEM 和表面分析系統
  • 低振動渦旋泵適用于最敏感的顯微分析
  • 可快速、無油式排空大型樣品室內的氣體
  • 集成的泵控制器可靈活進行控制,幾乎不生成電磁噪音
  • 非常適合為半導體生產創造合適環境
  • 高轉速確保能夠以高泵速抽空半導體生產中釋放的輕質氣體(He、H)
  • 符合高速循環應用的嚴格要求,例如真空裝載鎖
  • 通過對多個渦旋泵聯用一個前級泵,可提高工具的可靠性
  • 聯用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量氣體
  • 安裝于支架上的控制器或一體式控制器允許將電子設備放置于遠處
  • 電子顯微鏡(SEM、TEM)
  • 聚焦離子束系統 (FIB)
  • 表面分析
  • 半導體制造

安捷倫Turbo-V 1K-G渦輪分子泵技術規格:

抽速:
ISO 160:
ISO 200:

Ar:750 L/s

Ar:1040 L/s

N2:810 L/s

N2:1080 L/s

He:950 L/s/

He:1150 L/s

H2:680 L/s

H2:730 L/s

壓縮比:Ar:5 × 108N2:5 × 107He:4 × 104H2 1.5 × 104
極限真空*(使用推薦的前級泵)< 1 × 10-10 mbar   
入口法蘭ISO 160F,ISO 200F   
前級管道法蘭
ISO 160:
ISO 200:
KF 25 NW
KF 40 NW
   
額定轉速45500 rpm   
啟動時間< 5 分鐘   
推薦的最小前級泵> 20 m3/h (TriScroll 600, DS 602)   
工作位置任意位置   
操作環境溫度+5 °C 至 +35 °C   
烘烤溫度

 

入口法蘭溫度 80 ℃(ISO 法蘭)

   
振動參數(位移)

在入口法蘭處小于 0.01 μm

 

   
冷卻要求   
電源
輸入電壓:100-240 Vac
最大運行功率:
< 輸入頻率:50-60 Hz
使用氮氣和輕質氣體(水冷設置)時為 400 W
使用氬氣(風冷設置)時為 260 W
最大輸入功率:600 VA待機功率:30 至 35 W 
保險絲(Navigator 控制器)1 × 6.3 A   
串行通信(Navigator 套件)RS232 電纜,9 針 D 型外插頭和 9 針 D 型插口,以及 Navigator 軟件(可選)  
儲存溫度-20 °C 至 +70 °C   
重量

26.8 kg(59.1 磅)

   

Turbo-V 1K-G 不僅是一臺泵。該裝置是專門為薄膜沉積設備精心設計的分子泵系統。其葉片級數和泵的整體結構均經過優化,可以在高流速的氬氣氛圍下和溫度*的環境中工作。另外,可通過遠程機架控制器或泵機一體式控制器來驅動泵。所有這些特點使安捷倫 Turbo-V 1K-G 成為了鍍膜工業的較佳真空解決方案。

安捷倫Turbo-V 1K-G渦輪分子泵特性:

1、為薄膜沉積應用而專門設計的分子泵解決方案

2、極快的抽速和高氣體通量

3、耐用型的設計和高效運行的冷卻系統,可實現連續運行

4、能夠保護軸承的氣體吹掃

5、機架式 Navigator 控制器的樣品架類型

6、通用電子器件接口和操作簡單的控制軟件

7、模擬 I/O 信號和 RS232/RS485 接口(為標準Agilent Profibus 接口選項)

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